-
1 magnetron sputtering
English-Russian big polytechnic dictionary > magnetron sputtering
-
2 magnetron sputtering
The English-Russian dictionary general scientific > magnetron sputtering
-
3 magnetron sputtering
Большой англо-русский и русско-английский словарь > magnetron sputtering
-
4 magnetron sputtering
Англо-русский словарь технических терминов > magnetron sputtering
-
5 magnetron sputtering
Техника: магнетронное распыление -
6 magnetron sputtering
магнетронное распыление, магнетронный режим катодного распыленияEnglish-russian dictionary of physics > magnetron sputtering
-
7 magnetron sputtering
English-Russian electronics dictionary > magnetron sputtering
-
8 magnetron sputtering
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > magnetron sputtering
-
9 magnetron sputtering
-
10 magnetron sputtering
English-Russian dictionary on household appliances > magnetron sputtering
-
11 magnetron sputtering
English-Russian dictionary of microelectronics > magnetron sputtering
-
12 magnetron sputtering
English-Russian solar energy dictionary > magnetron sputtering
-
13 magnetron sputtering source
Большой англо-русский и русско-английский словарь > magnetron sputtering source
-
14 magnetron sputtering source
Англо-русский словарь технических терминов > magnetron sputtering source
-
15 magnetron sputtering device
Нанотехнологии: MSD, МРУ, магнетронное распылительное устройствоУниверсальный англо-русский словарь > magnetron sputtering device
-
16 magnetron sputtering source
Техника: магнетронный распылительный источникУниверсальный англо-русский словарь > magnetron sputtering source
-
17 magnetron sputtering target
Вакуумная техника: мишень для магнетронного распыленияУниверсальный англо-русский словарь > magnetron sputtering target
-
18 sputtering
1) распыление; разбрызгивание2) напыление; металлизация напылением•-
biased dc sputtering
-
bias dc sputtering
-
biased sputtering
-
bias sputtering
-
cathode sputtering
-
dc sputtering
-
diode sputtering
-
ion-beam sputtering
-
ion sputtering
-
magnetron sputtering
-
metal sputtering
-
oblique sputtering
-
preferential sputtering
-
reactive sputtering
-
rf asymmetric biased sputtering
-
rf asymmetric bias sputtering
-
rf sputtering
-
selective sputtering
-
triode sputtering -
19 sputtering
- biased dc sputtering
- cathode sputtering
- dc sputtering
- diode sputtering
- getter sputtering
- glow-discharge sputtering
- low-pressure dc sputtering
- magnetron sputtering
- metal sputtering
- multicathode sputtering
- preferential sputtering
- radio-frequency sputtering
- reaction sputtering
- reactive sputtering
- selective sputtering
- triode sputtering -
20 sputtering
- biased dc sputtering
- cathode sputtering
- dc sputtering
- diode sputtering
- getter sputtering
- glow-discharge sputtering
- low-pressure dc sputtering
- magnetron sputtering
- metal sputtering
- multicathode sputtering
- preferential sputtering
- radio-frequency sputtering
- reaction sputtering
- reactive sputtering
- selective sputtering
- triode sputteringThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > sputtering
- 1
- 2
См. также в других словарях:
magnetron sputtering — magnetroninis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. magnetron sputtering vok. magnetronartige Zerstäubung, f rus. магнетронное распыление, n pranc. pulvérisation magnétronique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
High Power Impulse Magnetron Sputtering — (HIPIMS, also known as High Impact Power Magnetron Sputtering and High Power Pulsed Magnetron Sputtering, HPPMS) is a method for physical vapor deposition of thin films which is based on magnetron sputter deposition. HIPIMS utilises extremely… … Wikipedia
Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… … Wikipedia
Sputtering — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Pulvérisation cathodique (sputtering) — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia
Pulvérisation cathodique — Pour les articles homonymes, voir Pulvérisation. La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est une méthode de dépôt de couche mince. Il s agit d une technique qui autorise la synthèse de plusieurs matériaux à partir de la condensation d’une… … Wikipédia en Français
Подклетнов, Евгений Николаевич — Евгений Николаевич Подклетнов российский материаловед, ранее работавший в Институте материаловедения Технического университета в Тампере (фин. Tampereen teknillinen yliopisto (TTY)). Стал широко известен из за его спорной работы по так… … Википедия
Подклетнов, Евгений Евгеньевич — Евгений Евгеньевич Подклетнов российский материаловед, ранее работавший в Институте материаловедения Технического университета в Тампере (фин. Tampereen teknillinen yliopisto (TTY)). Стал широко известен из за его спорной работы по так… … Википедия
Sputtern — Das Sputtern (aus dem Englischen to sputter = zerstäuben) – oder auf deutsch, die Kathodenzerstäubung – ist ein physikalischer Vorgang, bei dem Atome aus einem Festkörper (Target) durch Beschuss mit energiereichen Ionen (vorwiegend… … Deutsch Wikipedia
Stefan Janos — slowakisch schweizer Physiker und Pädagoge Stefan Janos (slowakisch Štefan Jánoš, * 22. Dezember 1943 in Kuchyňa, Slowakei) ist ein slowakisch schweizerischer Physiker, emeritierter Professor für Tieftemperaturphysik und Begründer der… … Deutsch Wikipedia